QUESTION:
Depuis combien de temps le processus de polissage de planarisation chimico-mécanique (CMP) est-il utilisé?
RÉPONDRE:
Nous suivons le développement de la planarisation chimico-mécanique (CMP) depuis les années 1980, lorsque ce processus de polissage a été utilisé pour la première fois dans l'industrie des semi-conducteurs. Bien sûr, mon intérêt pour le CMP est devenu plus personnel lorsque ce processus a été introduit dans l'industrie de la fibre optique au début des années 1990. Depuis lors, CMP fait partie intégrante de la fabrication d'assemblages de câbles à fibres optiques avec des ferrules MT. En fait, nous continuons de voir des développements dans le processus du PGPC.
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Réponse de l'équipe technique AskFOC : 20 février 2019
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